高真空多靶磁控溅射镀膜设备
高真空多靶磁控溅射镀膜设备
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1、产品描述

通过高真空多靶磁控溅射技术制备硬质薄膜、耐腐蚀摩擦薄膜、超导薄膜、磁性薄膜、光学薄膜、装饰薄膜、以及各种具有特殊功能的材料表面改性薄膜;

 

2、设备特点及优点

通过阳极层离子源提高离化率,实现高效率和高品质薄膜辅助沉积;

通过脉冲偏压反溅射/刻蚀清洗工件表面及偏压电场辅助沉积。

配备溅射靶 4套,阳极层离子源1


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公司简介

沈阳七维新材料科技有限公司是由具备十多年精密仪器及真空设备研发设计和生产制造经验的技术及管理团队联合成立的高技术企业,公司成立于2019年,专业从事实验室材料制备专用精密设备及大型真空热工设备的研发、生产和销售。七维科技将以先进的设计理念、精湛的制作工艺和强大的科研实力为大学实验室、科研院所、工厂企业提供从新材料研发到生产线建设的整套解决方案。

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    1、产品描述 通过高真空多靶磁控溅射技术制备硬质薄膜、耐腐蚀摩擦薄膜、超导薄膜、磁性薄膜、光学薄膜、装饰薄膜、以及各种具有特殊功能的材料表面改性薄膜;   2、设备特点及优点 通过阳极层离子源提高离化率,实现高效率和高品质薄膜辅助沉积; 通过脉冲偏压反溅射/刻蚀清洗工件表面及偏压电场辅助沉积。 配备溅射靶 4套,阳极层离子源1套

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